von: Professor Dr. Detlef W. Bahnemann, Institut für Technische Chemie der Universität Hannover
Neufahrn i. NB, im Mai 2004. Bereits vor mehr als 20 Jahren wurde erstmals das wissenschaftliche Prinzip beschrieben, das der selbstreinigenden Wirkung des ERLUS Lotus® zugrunde liegt. Nachdem sich eine zunehmende Anzahl von Forschungsgruppen - wie in jedem neuen Wissenschaftsgebiet - zunächst um das Verständnis der Grundlagen bemüht hatte, wurden seit dem Beginn der 90er Jahre des vergangenen Jahrhunderts immer mehr Anwendungsmöglichkeiten dieser Technik untersucht. Insbesondere seien hier die Wasser- und Luftreinigung sowie die Desinfektion genannt. All diese Applikationen beruhen auf der extrem starken Oxidationskraft des beleuchteten Katalysators, die letztendlich - in Gegenwart von Luftsauerstoff - zur vollständigen Oxidation nahezu aller bekannten organischen Substanzen (chemische Verunreinigungen) sowie Mikroorganismen (biologische Verunreinigungen) führt.
Durch den photokatalytischen Abbau von Fettspuren wird die Anhaftung von Staub- und Schmutzpartikeln auf den veredelten Oberflächen erschwert, was diese dauerhaft sauber hält. Unlängst hat sich das Deutsche Institut für Normung (DIN) entschlossen, eine Arbeitsgruppe zu gründen, die sich speziell mit der Erstellung von Normen zum überprüfbaren Nachweis der photokatalytischen Aktivität von Produkten beschäftigt. Ähnliche Aktivitäten gibt es auch auf internationaler Ebene bei der International Standard Organisation (ISO) sowie als European Norm (EN). In Zukunft wird es also möglich sein, anstelle der firmenspezifischen Garantieerklärung genormte Messverfahren einzusetzen, um die Güte der Produkte nicht nur verifizieren, sondern auch quantifizieren zu können. Dies ist nicht nur im Sinne der Verbraucher eine äußerst begrüßenswerte Entwicklung.
Oberflächenveredelungen mit selbstreinigender Aktivität besitzen im Hinblick auf unterschiedlichste technische Anwendungen viele interessante Eigenschaften: So können sich auf keramischen Oberflächen Bakterienfilme praktisch nicht mehr ausbilden, Fensterscheiben müssen im Außenbereich nicht mehr gereinigt werden und Metall- oder Gebäudeoberflächen werden beispielsweise von Farbstoffen nicht mehr dauerhaft verschmutzt. Während dies in den vergangenen Jahren vor allem in Japan bereits zur Entwicklung einer Vielzahl kommerziell erhältlicher Produkte geführt hat, steckt diese Technologie in Europa bislang noch in ihren Kinderschuhen. Umso erfreulicher ist es, dass mit ERLUS gerade ein mittelständiges Unternehmen aus Deutschland auf dem besten Wege ist, hier zum Schrittmacher dieser Technologie in Europa zu werden.
So konnte durch eingehende wissenschaftliche Untersuchungen gezeigt werden, dass ERLUS Lotus® nicht nur anhaftende Fette, sondern auch Farbstoffmoleküle abbaut. Hierzu genügt bereits ein Bruchteil der solaren Einstrahlung eines mitteleuropäischen Sommertages. Das heißt, dass auch die nach Norden oder Osten ausgerichteten Dachseiten sich noch ausreichend "selbst" reinigen. Auch biologische Verunreinigungen wie Bakterien, Pilze und Algen werden nachweislich abgetötet und im Anschluss vollständig abgebaut. Die auf das Dach auftreffenden Regentropfen waschen dann etwaige Schmutzpartikel äußerst wirkungsvoll vom fettfreien Dach und lösen so den Reinigungseffekt aus.
Durch dieses intelligente Zusammenspiel von Sonne und Regen wird gewährleistet, dass ein mit ERLUS Lotus® gedecktes Dach sich kontinuierlich selbst reinigt. Das erste selbstreinigende Tondach der Welt: Es bleibt viele Jahre sauber im Vergleich zu herkömmlichen Dachziegeln. Das Prinzip ist revolutionär.
Die eingebrannte Oberflächenveredelung der Erlus Tondachziegel zerstört die Schmutzteilchen, Fettablagerungen, Ruße, Moose und Algen mit Hilfe des Sonnenlichts. Der nächste Regen wäscht sie ab. Abschließend sei hier noch auf einen interessanten Nebeneffekt verwiesen: Schadstoffe, die sich oftmals auch im Regenwasser befinden (Stichwort Sauerer Regen), werden ebenfalls photokatalytisch abgebaut, so dass das vom Dach ablaufende Wasser sauberer als das auftreffende ist.
Professor Dr. rer. nat. Detlef W. Bahnemann
Persönliches:
geboren am 20. April 1953 in Berlin, verheiratet, 2 Kinder
Ausbildung:
Okt. 1972 - Juli 1977
Chemiestudium an der Technischen Universität Berlin
Stipendiat der Studienstiftung des Deutschen Volkes
Okt. 1976 - Juni 1977
Biochemiestudium an der Brunel University, Uxbridge, England
1. Juli 1977
Diplom-Chemiker: Mit Auszeichnung bestanden
Diplomarbeit auf dem Gebiet der Strahlenchemie:
'Die Oxidation zyklischer organischer Schwefelverbindungen
durch Hydroxylradikale' (Betreuer: Prof. K.-D. Asmus)
Beruflicher Werdegang:
Nov. 1977 - Juni 1981
Wissenschaftlicher Mitarbeiter bei Prof. K.-D. Asmus am Hahn- Meitner-Institut Berlin auf dem Gebiet der Strahlenchemie. Zusammenarbeit mit Dr. E. J. Hart (Argonne National Laboratories, USA), Dr. S. Navaratnam (North East Wales Institute, Großbritannien), Dr. J. E. Packer (University of Auckland, New Zealand) und vor allem mit Prof. R. L. Willson (Brunel University, Großbritannien). Teile der Experimente zur Promotion wurden an der Brunel University durchgeführt, wobei Prof. Willson als Betreuer fungierte.
3. Juli 1981
Verleihung des Titels Doktor der Chemie durch die Technische Universität Berlin (Gesamtnote: Mit Auszeichnung), Doktorarbeit über: Bildung und Eigenschaften von Phenothiazin Radikalkationen. Eine pulsradiolytische und Stopped-Flow Untersuchung? (Berichter: Prof. K.D. Asmus und Prof. W. Rapp).
Juli - Aug. 1981
DFG-Stipendiat am Hahn-Meitner-Institut Berlin bei Prof. K.-D. Asmus,
Untersuchung der physikalisch-chemischen Eigenschaften der
Dreielektronenbindung schwefelzentrierter organischer Radikale.
Sept. 1981 - März 1988
Wissenschaftlicher Mitarbeiter und Arbeitsgruppenleiter in der Abteilung von Prof. A. Henglein am Hahn-Meitner-Institut Berlin: strahlen- und photochemische Untersuchungen an nanokristallinen Metall- und Halbleiterteilchen, Photokatalyse an kolloidalen Metalloxiden. Betreuung von Diplom- und Doktorarbeiten auf dem Gebiet der Physikalischen Chemie.
1982 - 1988
Vorlesungen in Physikalischer Chemie (Wahlpflichtveranstaltungen im
Hauptdiplomstudiengang), Strahlenchemie und Chemie für Physiker an der Technischen Universität Berlin.
März 1985 - April 1987
Visiting Associate im Department of Environmental Engineering des California Institute of Technology, Pasadena (USA), bei Prof. M. R. Hoffmann. Forschungsschwerpunkte: Umweltrelevante Radikalreaktionen, Photokatalyse, Photochemie und -physik von Halbleiterclustern. Div. Vorlesungen, Betreuung von Diplom- und Doktorarbeiten.
März 1988 - Juni 2002
Leiter der Abteilung für Photochemie und Dünnschichttechnik am Institut für Solarenergieforschung in Hannover (Institutsleiter: Prof. R. Hezel), gleichzeitig Leiter der AG Grenzflächenphotochemie.
seit 17.Juni 2002
Akademischer Direktor und Leiter des Arbeitskreises Photokatalyse und Nanotechnologie am Institut für Technische Chemie der Universität Hannover. Betreuung von Studien-, Diplom- und Doktorarbeiten an den Universitäten Hannover, Clausthal und Oldenburg, sowie an verschiedenen Fachhochschulen des Landes Niedersachsen.
seit WS 1993/94
Vorlesungen an der Universität Oldenburg im Fachgebiet Physikalische Chemie
seit 1. April 2002
Honorarprofessor (Honorary Visiting Professor) an der Robert Gordon University in Aberdeen/Scotland (Großbritannien)
Veröffentlichungen:
Autor von über 100 Publikationen in referierten Journalen und in Büchern sowie mehr als 100 weiterer Publikationen (Proceedings, Abstracts, Reviews).
Editor-in-Chief des Journal of Advanced Oxidation Technologies
Mitglied des Advisory Board des Fresenius Environmental Bulletin
Mitglied des Editorial Board des International Journal of Photoenergy
Mitglied der International Scientific Committees folgender Konferenzserien:
- International Conferences on Oxidation Technologies for Water and Wastewater Treatment
- International Conferences on Photochemical Conversion and Storage of Solar Energy (IPS)
- International Conferences on Semiconductor Photochemistry
- International Conferences on TiO2 Photocatalytic Purification and Treatment of Water and Air
- European Meetings on Solarchemistry and Photocatalysis: Environmental Applications
ERLUS Aktiengesellschaft - Hauptstraße 106 - D-84088 Neufahrn / NB - Telefon: +49 (0)8773 180 - Telefax: +49 (0)8773 18 113 - info@erlus.com